[여성소비자신문 한지안 기자] 삼성전자가 평택캠퍼스 2라인에 낸드플래시 생산라인을 구축하는 투자를 단행한다. AI, IoT 등 4차 산업혁명 도래와 5G 보급에 따른 중장기 낸드수요 확대에 대응하기 위해서다. 정확한 투자 규모는 나오지 않았지만 시장에서는 8조원 규모에 달할 것으로 전망하고 있다. 2021년 하반기 양산을 시작할 계획이다.

삼성전자 메모리사업부 전략마케팅실 최철 부사장은 "이번 투자는 불확실한 환경 속에서도 메모리 초격차를 더욱 확대하기 위한 노력"이라며 "최고의 제품으로 고객 수요에 차질없이 대응함으로써 국가경제와 글로벌 IT산업 성장에 기여할 것"이라고 밝혔다.

지난 2015년 조성된 평택캠퍼스는 삼성전자의 차세대 메모리 전초기지로서 세계 최대규모의 생산라인 2개가 건설됐다. 이번 투자로 증설된 라인에서는 삼성전자의 최첨단 V낸드 제품이 양산될 예정이다. 삼성전자는 국내 화성과 평택, 해외 중국 시안 등 국내외 균형있는 투자를 통해 안정적인 글로벌 공급망을 유지하고 시장리더십을 더욱 강화할 예정이다.

한편 최근 검찰에 여러차례 소환된 이 부회장은 글로벌 경기부진과 중국업체들의 추격이라는 위기 속에서 기회를 찾으려는 투자 행보를 이어가고 있다. 삼성전자는 지난달 21일 경기도 평택캠퍼스에 극자외선(EUV) 파운드리 라인을 조성하겠다고 발표했으며, 열흘 뒤인 이날에는 평택캠퍼스 2라인에 낸드플래시 생산라인을 구축하는 투자를 단행한다고 밝혔다.

앞서 삼성전자는 지난달 평택 2라인에 낸드플래시 생산을 위한 클린룸 공사에 착수했으며, 내년 하반기부터 양산을 시작할 계획이다. 감염병 확산에 대부분 기업들의 투자가 주춤해진 가운데, 선제적 결단을 통한 미래 기회 선점에 나섰다는 분석이 대체적이다.

한지안 기자  hann9239@wsobi.com

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