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미국 바이든 대통령 반도체 생산 의지...k반도체 생존 전략은
한고은 기자 | 승인 2021.04.19 22:08

[여성소비자신문 한고은 기자] 조 바이든 미국 대통령은 최근 미국이 반도체 직접 생산을 위한 대대적인 투자에 나설 것임을 천명했다. 이에 우리나라 정부는 글로벌 반도체 시장 패권을 주도하기 위한 다양한 전략 구상을 시작하고 있다.

바이든 미 대통령 “반도체 직접생산 위한 인프라 구축에 투자할 것”

지난 12일(현지시간) 조 바이든 미국 대통령이 반도체 칩 부족 사태에 대응해 열린 회의에서 미국은 반도체 인프라에 대대적으로 투자해야 한다고 밝혔다.

바이든 정부는 반도체 산업에 대한 500억달러의 투자가 포함된 일자리 투자 법안을 발표하기도 했다. 이에 미 언론은 우리나라와 일본, 대만, 중국 등이 주도하고 있는 반도체 칩 생산을 앞으로 미국이 주도하게 될 것이라는 전망을 내놓고 있다.

미국 기업 ‘인텔’의 겔싱어 CEO도 같은날 로이터통신을 통해 “앞으로 6~9개월 내에 실제 반도체를 생산한다는 목표 아래 차량용 반도체 설계업체와 협의를 진행할 것”이라고 밝혔다.

정부 “반도체·배터리 패권경쟁 치열…국가전략차원 총력 지원”

이에 우리나라는 정부 주도로 반도체 시장에 국가차원의 총력 지원을 실시할 것을 밝혔다. 문재인 대통령은 15일 “반도체 산업은 우리 경제의 현재와 미래가 걸린 핵심 국가전략산업으로, 글로벌 반도체 공급망을 우리가 계속 주도해 나가야 한다”고 말했다.

문 대통령은 이날 청와대에서 주재한 확대경제장관회의에서 “글로벌 공급망을 자국 중심으로 재편하려는 움직임을 보이고 있고, 그 움직임이 가장 뚜렷한 업종은 반도체”라며 이같이 밝혔다.

문 대통령은 “지금 세계가 맞이하고 있는 ‘반도체 슈퍼 사이클’을 새로운 도약의 계기로 삼아 종합 반도체 강국 도약을 강력히 지원하겠다”며 “세계 1위를 지키고 격차를 벌리기 위한 다각도의 지원방안을 수립할 것”이라고 강조했다.

다음날인 16일 홍남기 부총리는 “미래차·반도체 연대·협력협의체를 통해 수급안정 협력과제를 발굴하고 4월 중에는 중장기 차량용반도체 기술개발 로드맵을 수립도 착수한다”며 “인허가 절차를 개선하고 재정 세제를 지원하는 등 업계 건의사항을 최우선적 해결하고 종합검토가 필요한 사안은 상반기 발표될 K-반도체 벨트전략에 반영하는 방안을 추진할 것”이라고 말했다. 

이날 회의에서는 미래차 경쟁력 확보를 위한 범부처 연구·개발(R&D) 추진방안에 대해서도 논의했다. 

홍 부총리는 “내연기관차에서 친환경·자율주행차 중심으로 급속히 재편되고, 미래차 시장 선점을 위한 핵심기술 확보 경쟁이 격화되고 있어 선제적 R&D 투자가 시급하다”며 “올해 미래차 연구개발에 작년보다 37% 확대된 3679억원을 지원하고, 현재의 투자강화 기조를 2025년까지 강력하게 지속해 나갈 것”이라고 밝혔다.

또 ‘2030년 미래차 경쟁력 1등 국가 도약’을 목표로 미래차 핵심기술인 배터리, 수소연료전지, 자율차 통신, 차량용 반도체, 차량용 센서, 자율주행 SW 등 6대 기술개발에 R&D를 집중 투자한다.

아울러 미래차로 생태계를 전환하기 위해 초고효율 하이브리드 시스템 등 내연차 고도화와 함께 부품기업의 미래차 전환 기술개발 수요를 반영한 지원을 통해 미래차로의 원활한 생태계 전환도 적극 지원할 방침이다.

자율주행차를 접목한 택시·배송 등 다양한 서비스모델도 개발해 수요자의 요구 등을 반영한 단계적 보급 확산에도 주력할 계획이다.

삼성 ‘반도체 비전 2030’ 어디까지 왔나

글로벌 반도체 시장을 주도하고 있는 삼성전자는 지난 2019년 ‘반도체 비전 2030’을 발표한 바 있다. 과감하고 선제적인 투자와 국내 중소업체와의 상생협력을 통해 한국 시스템 반도체산업 발전에 앞장서겠다는 포부다.

시스템 반도체 사업경쟁력 강화를 위해 2030년까지 국내 R&D 분야에 73조원, 최첨단 생산 인프라에 60조원을 투자해 시스템 반도체 연구개발 인력 양성에 기여하고 생산시설 확충에도 60조원이 투자돼 국내 설비‧소재 업체를 포함한 시스템 반도체 생태계 발전에도 긍정적인 영향을 미치겠다는 계획이다.

또 기술경쟁력 강화를 위해서 시스템 반도체 R&D 및 제조 전문인력 1만 5천명을 채용할 계획도 밝혔다.

이 같은 계획이 실행되면 2030년까지 연평균 11조원의 R&D 및 시설투자가 집행되고, 생산량이 증가함에 따라 42만명의 간접 고용유발 효과가 발생할 것으로 예상된다.

아울러 국내 중소 반도체업체 협력 통해 국가 시스템 반도체 산업생태계 강화에도 나섰다.

삼성전자, ‘K칩 시대’ 이끌 반도체 생태계 확장

지난해부터 삼성전자는 중소 협력사의 반도체 설비부품 개발을 지원하는 등 국내 반도체 생태계 강화에 총력을 기울이고 있다. 삼성전자는 협력사-산학-친환경 상생활동을 통해 국내 반도체산업 全분야의 경쟁력을 끌어올려 ‘K칩 시대’를 열겠다는 계획이다.

삼성전자가 협력사들과 진행해온 국내 반도체 생태계 육성 노력이 하나하나 결실을 거두고 있다. 삼성전자는 2010년대 초반부터 주요 설비, 부품 협력사와 함께 자체 기술개발에 노력해 왔다.

이오테크닉스는 그동안 수입에 의존하던 고성능 레이저 설비를 삼성전자와 공동 개발에 성공해 D램 미세화 과정에서 고질적으로 발생하는 불량 문제를 해결했다. 또한 싸이노스는 반도체 식각공정 효율화에 필요한 세라믹 파우더를 개발하고 리코팅 기술 내재화에 성공해 식각공정 제조 비용 절감과 생산성을 높이는 데 기여했다.

솔브레인은 삼성전자와 협력을 통해 3D 낸드플래시 식각공정의 핵심소재인 ‘고선택비 인산’을 세계 최초로 개발해 삼성전자 차세대 제품의 품질을 크게 향상시켰다.

레이저 설비 협력사 이오테크닉스 성규동 대표는 “8년간에 걸친 삼성전자와의 연구개발 성과로 설비 개발에 성공해 회사 임직원들도 큰 자부심을 느꼈다”며, “앞으로도 혁신을 통한 반도체 경쟁력 강화 노력을 지속해 나갈 것”이라고 말했다.

삼성전자는 최근 국내 협력사들과 함께 반도체 생태계 강화활동을 본격적으로 추진하고 있다.

삼성전자는 지난 4월 원익IPS, 테스, 유진테크, PSK 등 국내 주요 설비협력사, 2~3차 부품 협력사와 MOU를 체결하고 오는 7월부터 설비부품 공동개발을 본격적으로 시작한다.

설비사가 필요한 부품을 선정하면 삼성전자-설비사-부품사가 공동개발을 진행하는 방식으로, 삼성전자는 설비부품의 개발과 양산 평가를 지원한다.

또 중소 설비·부품사를 대상으로 반도체 제조와 품질 노하우를 전수하는 컨설팅도 진행한다. 다음 달 시작되는 이 컨설팅은 국내 반도체 중소기업들이 글로벌 수준의 품질 경쟁력을 확보하는 데 기여할 것으로 기대된다.

이와 함께 삼성전자에 신청한 24개 협력사를 대상으로 개발, 제조, 품질, 환경안전, 인사, 기획/경영, 영업/마케팅, 정보보호, 구매 등 총 9개 분야에 대해 전방위적인 경영자문도 병행해 나갈 예정이다.

삼성전자는 또 산학협력을 통해 ‘K칩 시대’를 이끌 미래 반도체 인재를 육성하는 데 힘쓰고 있다. 삼성전자는 우선 국책 반도체 특성화 대학인 한국폴리텍대학 안성캠퍼스에 반도체 Asher(공정장비), AFM(계측장비)을 기증해 학생들이 반도체 제조 공정을 직접 실습할 수 있도록 지원하고 있다.

삼성전자는 또 올해 AI(인공지능) 등 4차 산업혁명 핵심 분야에 전문성을 갖춘 우수 인재 양성을 위해 서울대학교와 함께 ‘인공지능반도체공학 연합전공’을 신설했다.

삼성전자는 연합전공 소속 학생들에게 ▲산업체 인턴십 기회 제공 ▲반도체 소자·회로와 시스템 제작 실습 ▲반도체 설계 단기 교육프로그램 참여 ▲국내외 반도체 전문가 초청 특강 등 다양한 지원을 하게 된다.

삼성전자는 2018년 8월, 서울대학교와 ‘국내 반도체 분야 발전과 미래 인재 양성을 위한 산학협력’ 협약을 맺기도 했다.

이 밖에도 연세대·성균관대와 반도체 학과를 운영하는 등 다양한 방법으로 미래 인재를 육성하고 국내 반도체 산학협력 생태계를 구축해 나간다는 계획이다.

또 지난해 하반기부터 세계 최대 규모의 반도체 공장인 평택 2라인 가동에 들어갔다. 이 라인에서는 업계 최초로 EUV(Extreme Ultraviolet, 극자외선) 공정을 적용한 첨단 3세대 10나노급(1z) LPDDR5 모바일 D램이 생산된다.

삼성전자의 평택 2라인은 연면적이 12만8900㎡(축구장 16개 크기)에 달하는 세계 최대 규모의 반도체 생산라인이다.

평택 2라인은 이번 D램 양산을 시작으로 차세대 V낸드, 초미세 파운드리 제품까지 생산하는 첨단 복합 생산라인으로 만들어져 4차 산업 혁명 시대의 반도체 초격차 달성을 위한 핵심적인 역할을 할 예정이다.

삼성전자는 평택 2라인에 지난 5월 EUV 기반 최첨단 제품 수요에 대비하기 위한 파운드리 생산라인을 착공했으며, 6월에는 첨단 V낸드 수요 확대에 대응하기 위한 낸드플래시 생산라인도 착공했다. 두 라인 모두 2021년 하반기부터 본격 가동할 예정이다.

평택 2라인은 지난 2018년 8월에 발표한 180조원 투자, 4만명 고용 계획의 일환으로 건설된 것으로 삼성전자는 어려운 여건 속에서도 신규투자와 채용을 적극 확대하고 있다.

한고은 기자  h9@wsobi.com

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