사진제공=삼성전자

[여성소비자신문 한고은 기자] 날로 치열해지는 글로벌 반도체 시장 선점을 위해 정부당국과 삼성전자가 속도를 올리고 있다. 추경호 경제부총리는 반도체 경쟁에서 앞설 수 있도록 전폭적인 지원을 약속하고 나섰고, 이재용 삼성 부회장은 반도체 공급을 위해 네덜란드행을 앞두고 있다.

추경호 부총리 "반도체 시장 선점 위해 정책 노력 아끼지 않을 것"

추경호 경제부총리 겸 기획재정부 장관이 반도체 시장 초격차 확보를 위해 연구개발(R&D) 투자 세제지원과 인재 양성을 위한 전폭적인 지원을 약속했다. 추 부총리는 지난달 31일 서울대 반도체공동연구소를 방문해 반도체 시설과 장비를 살펴본 뒤 가진 학계·업계 전문가 간담회에서 이 같이 밝혔다.

그는 “전력‧용수‧도로 등 인프라 구축·재정 지원 등 반도체 설비투자에 대한 인센티브를 확대하고, 반도체 단지 조성 시 신속한 인허가 처리 지원을 위한 방안도 마련할 계획”이라면서 “수요연계 협력모델 발굴, R&D 지원 강화, 국제협력 등을 통해 반도체 산업의 생태계가 더욱 공고화되도록 하겠다”고 말했다.

또한 "우리나라가 글로벌 반도체 패권 경쟁에서 앞서 나갈 수 있도록 정책적 노력을 아끼지 않을 것"이라며 "반도체 산업의 성장 기반과 역량을 더욱 탄탄하게 하도록 국내 반도체 투자 확대를 위한 지원을 강화하겠다"고 약속했다.

이어 추 부총리는 "협력모델 발굴 등을 통해 대-중소기업 간 협력적 생태계를 조성하고, R&D 세제지원 및 8월 시행 예정인 '국가첨단전략산업법'에 근거한 각종 지원을 강화할 것"이라고 강조했다.

업계에서 제기한 전문 인력 부족 문제에 대해서는 "특성화 대학 지정과 반도체 관련 학과 정원 확대 등을 통해 인력 풀을 확충하며, 산학 연계 프로그램을 확대해 현장 수요에 맞는 인재를 양성하겠다"고 밝혔다.

이재용 부회장 네덜란드 간다...반도체 공급 문제 협의

이재용 삼성전자 부회장은 7일부터 18일까지 반도체 장비업체 ASML 관계자를 만나기 위해 네덜란드로 향한다. 반도체 미세공정에 반드시 필요한 극자외선(EUV) 노광장비 공급 문제를 협의하기 위해서다.

이 부회장은 이번 출장에서 초미세공정의 핵심 설비인 극자외선(EUV) 노광장비를 생산하는 ASML을 최우선으로 방문할 것으로 보인다. 경기도 평택과 미국 텍사스주 테일러시에 신규 반도체 공장을 짓고 있는 삼성전자는 미세공정을 위한 EUV 장비가 필수적이다.

ASML에서 이 장비를 생산하고 있는데, 기존 고객인 대만 TSMC와 삼성전자뿐 아니라 전 세계 반도체 업체가 여기에 매달리면서 원활한 수량을 제때 구하기가 쉽지 않다. ASML도 부품 부족으로 장비 생산에 어려움을 겪고 있는 것으로 알려졌다.

EUV 장비를 생산하는 업체는 전 세계에서 ASML이 유일하다. 대당 2000억~3000억원가량으로 고가인 데다 연간 생산량도 40여 대에 불과하다. 1년에 1대당 2000억원에 달하는 EUV 장비의 생산 가능 수량은 1년에 40~50대 뿐인 것으로 전해져 반도체 기업들의 확보전이 치열한 상황이다.

네덜란드행이 알려진 것은 현재 진행 중인 재판에 불참석하게 됐기 때문이다. 2일 서울중앙지법에서 열린 삼성물산-제일모직 부당합병 혐의 공판에서 재판부는 이 부회장이 이달 7∼18일 네덜란드 출장으로 재판 출석이 어렵다는 취지의 의견서를 냈다면서 검찰 의견을 물었다.

검찰이 “이견이 없다”고 하자 재판부는 “경영상 필요에 의한 것이고 검찰도 동의했다”면서 출장 기간에 예정된 두 차례의 재판은 이 부회장이 불출석하는 것으로 하겠다"고 밝혔다.

이 부회장은 2020년 10월에도 네덜란드 에인트호번에 위치한 ASML 본사를 방문해 페테르 베닝크 최고경영자(CEO) 등을 만나 협력 방안을 논의한 바 있다.

한편 삼성전자는 이날 차세대 반도체 기술을 연구하는 반도체연구소 조직을 대대적으로 개편했다. 이날 인사에서 삼성전자 DS부문(반도체부문)은 신임 반도체연구소장으로 송재혁 메모리플래시개발실장(부사장)을 선임했다.

송 소장은 1967년생으로 서울대 반도체공학과 박사 학위 소지자로 공정과 소자 개발 분야에서 세계 최고 수준의 전문가로 통한다.

한고은 기자  h9@wsobi.com

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